Patronatge II
Concebre el patronatge com a instrument necessari per materialitzar un conjunt de peces tèxtils de caràcter comercial. Saber executar els patrons d'una forma ja professional, aplicant amb criteri les tècniques, els acabats i els sistemes de confecció seriats. Dotar a l'alumnat la consciència i la capacitat de poder treballar (dins un sistema estàndard industrial) tot el ventall de cossos no normatius.
- Estudi: Grau en Disseny
- Crèdits: 6 ECTS
- Curs: Tercer curs
- Tipus: Optativa
- Menció: Menció en Disseny de Moda
- Codi de l'assignatura: GDVM93
Continguts
- Patter Magic. La geometria acoblada al cos.
- Patronatge Geomètric.
- Modelatge del patronatge geomètric.
- FITTING _prueba del assegut de la peça.
- SHOWROOM. Col·lecció Privée.
Resultats d'Aprenentatge
- Utilitza el patró per a l'estudi geomètric de les formes.
- Desenvolupa i transforma correctament patrons de sastreria per a dona.
- Materialitza correctament una col·lecció completa de peces per a dona.
- Avalua adequadament les peces de la col·lecció i és capaç d'identificar i resoldre els problemes dels prototips de peces de sastreria per a dona.
- Presenta la col·lecció en un format professional: showroom
- Mostra haver adquirit coneixements avançats i comprensió dels aspectes teòrics i pràctics del disseny de moda amb profunditat.
Competències Específiques
CE5. Domina les tècniques de representació gràfica, les eines de representació digital, així com els llenguatges expressius i la producció formal manual específics dels diferents àmbits del disseny per poder-les aplicar de forma coherent als processos d’ experimentació, de desenvolupament , de realització i de presentació dels projectes professionals.
Avaluació
Assignatura d'avaluació contínua, amb treballs mensuals de peça confeccionada, on s'avaluarà la complexitat de la plantilla, la investigació en acabats, la composició formal i la qualitat en l'acabat final del prototip.
S'avaluarà la puntualitat i l'actitud receptiva a classe cap a la matèria
- Exposició al públic de la Col·lecció Privée. 80%
- Seguiment dels treballs dirigits a través dels prototips. 10%
- Seguiment general i aportació a classe. 10%
